金融界2025年7月25日消息，国家知识产权天富注册链接局信息显示，东友精细化工有限公司申请一项名为“清洁组合物及使用其形成光致抗蚀剂图案的方法”的专利，公开号CN120365991A，申请日期为2025年01月。

　　专利摘要显示，根据本发明的实施方式的清洁组合物包括醇溶剂和有机金属化合物，其中基于组合物的总重量，有机金属化合物的含量大于0且为5ppb以下。有机金属化合物抑制了诸如醛和酮的杂质的产生，从而减少了半导体和显示器的制造过程中缺陷的出现并提高了良率。